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EUV光刻設備的保護模塊以及EUV光刻設備專利登記公告


專利名稱:EUV光刻設備的保護模塊以及EUV光刻設備

摘要:在EUV光刻設備(10)中,為了延長對污染敏感的構件的壽命,提議將它們布置在保護模塊中。保護模塊包括具有至少一個開口(37-47)的殼體(23-29),至少一個構件(13a、13b、15、16、18、19)被布置于所述殼體中且設置一個或多個氣體供應(30-36),從而將氣流引入該殼體(23-29),該氣流通過該至少一個開口(37-47)流出。為了有效防止污染物質滲入保護模塊中,具有一個或多個波長的光源(48-56)被布置在至少一個開口(37-47)處,該光源照射所述開口(37-47),通過該照射,污染物質在它們穿過開口(37-47)之前可被離解。

專利類型:發明專利

專利號:CN200980134668.2

專利申請(專利權)人:卡爾蔡司SMT有限責任公司

專利發明(設計)人:德克·H·埃姆;蒂莫·勞弗;本·班尼;詹斯·庫格勒;烏爾里克·尼肯;弗蘭茲·凱勒

主權項:一種保護模塊,包括具有至少一個開口(37??47、204)的殼體(23??29、119??128、202),在所述殼體中布置至少一個構件(13a、13b、15、16、18、19、103??107、110??115、116、206),且在所述殼體提供一個或多個氣體供應(30??36、118、203),從而將氣流引入所述殼體(23??29、119??128、202),所述氣流通過所述至少一個開口(37??47、204)流出,其特征在于:光源(48??56、130??143、207??209)被布置在所述至少一個開口(37??47、204)處。

專利地區:德國

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