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EUV光刻设备的保护模块以及EUV光刻设备专利登记公告


专利名称:EUV光刻设备的保护模块以及EUV光刻设备

摘要:在EUV光刻设备(10)中,为了延长对污染敏感的构件的寿命,提议将它们布置在保护模块中。保护模块包括具有至少一个开口(37-47)的壳体(23-29),至少一个构件(13a、13b、15、16、18、19)被布置于所述壳体中且设置一个或多个气体供应(30-36),从而将气流引入该壳体(23-29),该气流通过该至少一个开口(37-47)流出。为了有效?#20048;?#27745;染物质渗入保护模块中,具有一个或多个波长的光源(48-56)被布置在至少一个开口(37-47)处,该光源照射所述开口(37-47),通过该照射,污染物质在它们穿过开口(37-47)之前可被离解。

专利类型:发明专利

专利号:CN200980134668.2

专利申请(专利权)人:卡尔蔡司SMT有限责任公司

专利发明(设计)人:德克·H·埃姆;蒂莫·劳弗;本·班尼;詹斯·库格勒;乌尔里克·尼肯;弗兰兹·凯勒

主权项:一种保护模块,包括具有至少一个开口(37??47、204)的壳体(23??29、119??128、202),在所述壳体中布置至少一个构件(13a、13b、15、16、18、19、103??107、110??115、116、206),?#20197;?#25152;述壳体提供一个或多个气体供应(30??36、118、203),从而将气流引入所述壳体(23??29、119??128、202),所述气流通过所述至少一个开口(37??47、204)流出,其特征在于:光源(48??56、130??143、207??209)被布置在所述至少一个开口(37??47、204)处。

专利地区:德国

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