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改進的納米壓印方法專利登記公告


專利名稱:改進的納米壓印方法

摘要:本發明涉及一種將由抗蝕劑(2a,12a)制成的結構化的涂層涂覆至基底(6,16)表面上的方法。該方法包括:至少一個壓印步驟,其中可流動的抗蝕劑(2,12)壓印在壓模(1,11)的結構化表面和支承體(3,13)之間以使壓模表面有結構化的抗蝕劑(2,12)涂層;各后續的分離步驟,其中具有結構化的抗蝕劑涂層的第一部分(2a,12a)的壓模與具有抗蝕劑涂層的第二部分(2b,12b)的支持體彼此分離;后續的轉移步驟,其中壓模(1,11)表面上結構化的抗蝕劑涂層的第一部分(2a,12a)壓抵基底(6,16)表面上以將結構化的抗蝕劑涂層(2a,12a)轉印到基底(6,16)表面;固化步驟,其中使結構化的抗蝕劑涂層的第一部分(2a,12a)固化;脫模步驟,其中結構化的抗蝕劑涂層的第一部分(2a,12a)與壓模(1,11)分離。

專利類型:發明專利

專利號:CN200980133236.X

專利申請(專利權)人:AMO有限公司

專利發明(設計)人:N·庫;J·W·金;C·摩爾曼

主權項:一種將圖案化的抗蝕劑涂層(2a,12a)涂覆至基底(6,16)表面上的方法,包括:至少一個壓印步驟,其中將可流動的抗蝕劑(2,12)分別壓印于壓模(1,11)圖案化的表面和載體(3,13)之間以使所述壓模表面設置有圖案化的抗蝕劑(2,12)表面,各后續的分離步驟,其中使具有所述圖案化的抗蝕劑涂層的第一部分(2a,12a)的所述壓模與具有所述抗蝕劑涂層的第二部分(2b,12b)的所述載體彼此分離;后續的轉移步驟,其中將所述壓模(1,11)表面上的所述圖案化的抗蝕劑涂層的所述第一部分(2a,12a)壓抵所述基底(6,16)的所述表面以將所述圖案化的抗蝕劑涂層(2a,12a)轉印到所述基底(6,16)的所述表面上;固化步驟,其中使所述圖案化的抗蝕劑涂層(2a,12a)的所述第一部分(2a,12a)固化;脫模步驟,其中將所述圖案化的抗蝕劑涂層的所述第一部分(2a,12a)與所述壓模(1,11)分離。

專利地區:德國

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