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改进的纳米压印方法专利登记公告


专利名称:改进的纳米压印方法

摘要:本发明涉及一种将由抗蚀剂(2a,12a)制成的结构化的涂层涂覆至基底(6,16)表面上的方法。该方法包括:至少一个压印步骤,其中可流动的抗蚀剂(2,12)压印在压模(1,11)的结构化表面和支承体(3,13)之间以使压模表面有结构化的抗蚀剂(2,12)涂层;各后续的分离步骤,其中具有结构化的抗蚀剂涂层的第一部分(2a,12a)的压模与具有抗蚀剂涂层的第二部分(2b,12b)的支持体彼此分离;后续的转移步骤,其中压模(1,11)表面上结构化的抗蚀剂涂层的第一部分(2a,12a)压抵基底(6,16)表面上以将结构化的抗蚀剂涂层(2a,12a)转印到基底(6,16)表面;固化步骤,其中使结构化的抗蚀剂涂层的第一部分(2a,12a)固化;脱模步骤,其中结构化的抗蚀剂涂层的第一部分(2a,12a)与压模(1,11)分离。

专利类型:发明专利

专利号:CN200980133236.X

专利申请(专利权)人:AMO有限公司

专利发明(设计)人:N·库;J·W·金;C·摩尔曼

主权项:一种将?#21450;?#21270;的抗蚀剂涂层(2a,12a)涂覆至基底(6,16)表面上的方法,包括:至少一个压印步骤,其中将可流动的抗蚀剂(2,12)分别压印于压模(1,11)?#21450;?#21270;的表面和载体(3,13)之间以使所述压模表面设置有?#21450;?#21270;的抗蚀剂(2,12)表面,各后续的分离步骤,其中使具有所述?#21450;?#21270;的抗蚀剂涂层的第一部分(2a,12a)的所述压模与具有所述抗蚀剂涂层的第二部分(2b,12b)的所述载体彼此分离;后续的转移步骤,其中将所述压模(1,11)表面上的所述?#21450;?#21270;的抗蚀剂涂层的所述第一部分(2a,12a)压抵所述基底(6,16)的所述表面以将所述?#21450;?#21270;的抗蚀剂涂层(2a,12a)转印到所述基底(6,16)的所述表面上;固化步骤,其中使所述?#21450;?#21270;的抗蚀剂涂层(2a,12a)的所述第一部分(2a,12a)固化;脱模步骤,其中将所述?#21450;?#21270;的抗蚀剂涂层的所述第一部分(2a,12a)与所述压模(1,11)分离。

专利地区:德国

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